| Инд. авторы: | Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. |
| Заглавие: | Numerical Modeling of Silicon Etching in CF4/O2 Plasma. Chemical System |
| Библ. ссылка: | Grigoryev Yu.N., Gorobchuk A.G. Numerical Modeling of Silicon Etching in CF4/O2 Plasma. Chemical System // Proc. 24th Conf. On Microelectronics (MIEL-2004). Vol. 2, 2004. - P.475-478. |
| Издано: | 2004 |
| Физ. характеристика: | с.475-478 |